等離子去膠機(jī)是一種干法去膠技術(shù)，它利用等離子體中的高能粒子對(duì)光刻膠進(jìn)行轟擊，使其發(fā)生化學(xué)反應(yīng)和物理剝離，從而實(shí)現(xiàn)去除光刻膠的目的。相比于化學(xué)去膠，等離子去膠機(jī)具有以下優(yōu)勢(shì)：
 

　　1、高效性：去膠速度較快，可以在較短的時(shí)間內(nèi)完成大量樣品的處理。而化學(xué)去膠通常需要較長的時(shí)間才能去除光刻膠。
 

　　2、環(huán)保性：不需要使用有害的化學(xué)試劑，因此在處理過程中不會(huì)產(chǎn)生有毒廢物，對(duì)環(huán)境的影響較小。而化學(xué)去膠需要使用有機(jī)溶劑，如丙酮、異丙醇等，這些溶劑對(duì)環(huán)境和操作人員的健康都有一定的危害。
 

　　3、可控性：也可以通過調(diào)節(jié)等離子體的參數(shù)(如功率、氣壓、氣體種類等)來控制去膠的速度和效果，實(shí)現(xiàn)對(duì)去膠過程的精確控制。而化學(xué)去膠的過程受到多種因素的影響，如溶劑的種類、濃度、溫度等，其可控性相對(duì)較差。
 

　　4、兼容性：適用于各種類型的光刻膠，包括正膠、負(fù)膠、厚膠等，且對(duì)底層材料的損傷較小。而化學(xué)去膠可能對(duì)某些光刻膠或底層材料產(chǎn)生不良影響，如溶解、膨脹等。
 

　　5、工藝集成：還可以與其他等離子體工藝(如等離子體清洗、等離子體蝕刻等)集成在同一設(shè)備中，實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)化生產(chǎn)，提高生產(chǎn)效率。而化學(xué)去膠通常需要單獨(dú)的設(shè)備和工藝步驟，增加了生產(chǎn)的復(fù)雜性。
 

　　然而，等離子去膠機(jī)也存在一些局限性，如設(shè)備成本較高、對(duì)操作人員的技能要求較高等。因此，在選擇去膠方法時(shí)，需要根據(jù)實(shí)際需求和條件綜合考慮。